原位激光氣體分析儀標(biāo)定方法詳解
2024年07月22日 13:47
來源:派瑞科技有限公司
原位激光氣體分析儀作為一種高精度、實時監(jiān)測的氣體分析設(shè)備,廣泛應(yīng)用于工業(yè)過程控制、環(huán)境監(jiān)測、科學(xué)研究等多個領(lǐng)域。為了確保其測量結(jié)果的準確性和可靠性,定期對其進行標(biāo)定是至關(guān)重要的步驟。本文將詳細闡述原位激光氣體分析儀的標(biāo)定方法,包括標(biāo)定原理、標(biāo)定步驟及注意事項,以期為相關(guān)從業(yè)人員提供技術(shù)參考。
一、標(biāo)定原理
原位激光氣體分析儀主要采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù),通過激光與氣體分子的相互作用來測量氣體中特定成分的濃度。標(biāo)定過程則是利用已知濃度的標(biāo)準氣體,通過比較分析儀的輸出值與標(biāo)準氣體濃度值,調(diào)整分析儀的參數(shù),使其在不同濃度下均能輸出準確值。
二、標(biāo)定步驟
1. 準備階段
(1)查閱說明書:首先,需要查閱設(shè)備說明書,了解標(biāo)定方法和所需工具。
?。?)準備標(biāo)準氣體源:準備具有已知濃度的標(biāo)準氣體源,并確保其準確性和可靠性。
(3)檢查設(shè)備:檢查激光氣體分析儀的外觀,確保無損壞和松動部件;檢查設(shè)備內(nèi)部電路和連接線路,確保無短路和斷路現(xiàn)象。
2. 零點校準
(1)環(huán)境設(shè)置:將儀器置于無氣體干擾的環(huán)境中,啟動設(shè)備。
(2)零點調(diào)整:按照設(shè)備說明書操作,進行零點校準,確保在無氣體輸入時,設(shè)備輸出為零。
3. 跨度校準
(1)接入標(biāo)準氣體:將標(biāo)準氣體源接入分析儀,調(diào)整氣體濃度至設(shè)備量程范圍內(nèi)。
?。?)濃度校準:按照設(shè)備說明書操作,進行跨度校準,確保設(shè)備在標(biāo)準氣體濃度下輸出準確值。
4. 重復(fù)校準
(1)多濃度點校準:在不同濃度點下重復(fù)進行零點校準和跨度校準,確保設(shè)備在多個濃度點下均能輸出準確值。
5. 驗證與檢查
?。?)驗證校準效果:使用標(biāo)準氣體源對設(shè)備進行測試,驗證校準效果是否滿足要求。
?。?)檢查設(shè)備:完成校準后,再次檢查設(shè)備外觀和內(nèi)部電路,確保無異常現(xiàn)象。
三、在線標(biāo)定方法
對于原位式激光氣體分析儀,還可采用在線標(biāo)定方法,以進一步提高標(biāo)定效率和準確性。在線標(biāo)定方法通常涉及以下步驟:
1.標(biāo)定裝置:準備標(biāo)定氣室和測量管道,以及相關(guān)的激光發(fā)射單元、信號探測單元、標(biāo)定信號探測單元等。
2.正常測量與標(biāo)定切換:正常測量時,信號切換模塊將信號探測單元與信號處理模塊連接;當(dāng)需要進行標(biāo)定時,則在標(biāo)定氣室中通入已知濃度的標(biāo)準氣體,信號切換模塊將標(biāo)定信號探測單元與信號處理模塊連接。
3.光譜記錄與對比:信號處理模塊記錄由標(biāo)定信號探測單元得到的氣體吸收光譜,將測量值與標(biāo)氣濃度值進行對比,從而實現(xiàn)儀器的在線標(biāo)定。
四、注意事項
1.遵循說明書:在進行標(biāo)定時,務(wù)必遵循設(shè)備說明書和校準裝置的使用要求。
2.避免干擾:避免在惡劣環(huán)境下進行校準,以免影響校準結(jié)果。
3.定期維護:定期對校準裝置進行維護和保養(yǎng),確保其準確性和可靠性。
4.安全操作:在操作過程中注意安全,確保標(biāo)準氣體源的使用符合相關(guān)安全規(guī)范。
結(jié)論
原位激光氣體分析儀的標(biāo)定是確保其測量準確性和可靠性的重要步驟。通過合理的標(biāo)定方法和步驟,以及在線標(biāo)定技術(shù)的應(yīng)用,可以進一步提高分析儀的性能和穩(wěn)定性。希望本文能為相關(guān)從業(yè)人員提供有益的參考和指導(dǎo)。
關(guān)鍵詞:
原位激光氣體分析儀,工業(yè)在線及過程控制儀器,半導(dǎo)體激光器氣體分析儀
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其他方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。