北崎供應(yīng)HORIBA堀場磷酸濃度監(jiān)測(cè)儀CS-620F
# 2025年新品發(fā)布會(huì)#
日期:2025年2月11日
時(shí)間:8:30-18:30
近期我司新推出升級(jí)了HORIBA堀場磷酸濃度監(jiān)測(cè)儀CS-620F
無需冷卻即可實(shí)時(shí)測(cè)量高溫磷酸的磷酸濃度監(jiān)測(cè)儀。 非常適合控制半導(dǎo)體制造工藝中使用的磷酸濃度,主要是3D NAND閃存的SiN層*1 蝕刻工藝。 *1 SiN層:在硅晶片等上形成的硅和氮化合物的薄膜。
高濃度/高溫兼容 循環(huán)管路中高濃度(高達(dá)92%)、高溫(140-170℃)的磷酸無需冷卻即可直接測(cè)量,因此無需冷卻機(jī)構(gòu)或冷卻時(shí)間。 污染風(fēng)險(xiǎn)低 通過使用 PFA 作為樣品連接部分,可以降低污染風(fēng)險(xiǎn)。 為了更快的反饋控制 每3秒更新一次測(cè)量數(shù)據(jù)的實(shí)時(shí)測(cè)量實(shí)現(xiàn)了高速濃度反饋控制。 減少設(shè)備停機(jī)時(shí)間 使用半年一次的背景校正周期可以減少設(shè)備停機(jī)時(shí)間。
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其他方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。